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PWB技術及其在多芯片光互連中的應用

更新時間:2026-06-22點擊次數:208
光子引線鍵合是一種基于雙光子聚合3D激光直寫光刻的光子芯片互連技術。該技術利用高能量脈沖激光使光刻膠在特定位置發生多光子聚合作用,經顯影和干燥后形成具有任意三維幾何形狀的聚合物波導,用于連接光子芯片的出光口與入光口、激光器與光纖等光學組件。
 
一、技術原理與核心優勢
 
PWB的技術基礎是雙光子聚合三維直寫光刻。飛秒激光脈沖被緊聚焦在液態光敏樹脂中,在焦點體積內激發雙光子吸收,引發聚合反應固化材料。通過精確控制激光焦點的三維掃描路徑,可在不同光子芯片之間“打印”出自由形態的單模波導。
 
PWB的核心優勢體現在以下幾個方面。首先是對準容差的大幅提升——PWB波導可補償芯片貼裝過程中高達±30微米的位置偏差,使被動貼裝成為可能,無需對波導進行主動對準。其次是耦合效率——優化的自由曲面波導幾何結構在C波段可實現每個耦合界面低于2分貝的插入損耗。第三是平臺兼容性——PWB支持不同材料平臺光子芯片的混合集成,包括磷化銦、絕緣體上硅、氮化硅、鈮酸鋰和玻璃等。第四是自動化量產潛力——PWB將光纖與芯片之間復雜的空間對準轉化為“波導內有線連接”,可實現高密度封裝和自動化量產。
 
二、應用場景
 
PWB技術在多個光互連場景中展現出應用價值。在芯片到芯片互連中,PWB波導可連接位于不同芯片上的納米光子電路。在激光器到芯片耦合中,PWB可將半導體激光器的出光口與硅光芯片的入光口直接相連。在芯片到光纖耦合中,PWB可將硅光芯片的出光口與單模光纖相連。該方案避免了傳統方案中耗時較多的主動對準調節,節省了光束整形所需的透鏡等分立元件,制備流程相對簡捷。
 
在面向AI光互聯的應用中,PWB與玻璃通孔技術被視為協同突破的兩項核心工藝。PWB技術已通過Telcordia系列環境測試,并在哈佛大學、住友電工等機構得到驗證應用。
 
三、技術局限與發展方向
 
PWB技術的局限性主要體現在材料體系上——當前主要采用聚合物材料,其長期穩定性和溫度特性與無機材料存在差異。此外,PWB波導的傳輸損耗和偏振相關損耗仍需進一步優化。隨著光子集成度的持續提升,PWB有望在光電共封和光輸入/輸出等方案中發揮日益重要的作用
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